SKハイニックス社長「今は176層NAND、600層以上可能に」


SKハイニックスの李錫熙(イ・ソクヒ)社長が22日、「今後、DRAMは10ナノメートル(1ナノメートルは10億分の1メートル)以下の工程に突入し、NAND型フラッシュメモリは600層以上の積層が可能になる」と発表した。「成功したプラットフォームの革新が実現すれば10年後」という前提だ。

李錫熙社長はこの日、米国電気電子学会(IEEE)が主管した国際信頼性シンポジウム(IRPS)の基調講演で「DRAMとNANDの各分野における技術進化のために、物質と設計構造を改善し、信頼性の問題も着々と解決している」と述べた。SKハイニックスは昨年末、米マイクロンに続いて176層NAND型フラッシュメモリの開発に成功している。ことし下半期には、極紫外線(EUV)機器を活用し、第4世代の10ナノ級(1a)DRAMを生産する予定だ。

李社長は、ことしSKグループが力を入れている「フィナンシャル・ストーリー(Financial Story)」を達成するための技術・社会・時代的価値も強調した。ファイナンシャルストーリーとは、顧客と投資家、市場などを対象に、会社の成長戦略と未来のビジョンを提示し、総体的価値を高めていくというSKの経営戦略だ。

李社長は、エネルギー・環境問題解決のための「社会的価値」に関して、「世界のすべてのデータセンターのHDD(ハードディスクドライブ)を2030年までに低消費電力のSSD(ソリッドステートドライブ)と交換すれば、二酸化炭素の排出量を93%削減することができる」と述べた。「時代的価値」については、「AI(人工知能)技術をベースに、あらゆる機器が統合されるニューICT(情報通信技術)の時代へと進化していくだろう」とし、「メモリ技術はニューロ・モーフィック半導体(脳神経を模倣した半導体)に、ストレージ技術はDNA(遺伝子)半導体のような形に統合されるだろう」との見方を示した。



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